圆形掩膜板

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掩膜版制备工艺主要采用曝光腐蚀工艺(与光刻法在硅表面制备高精度的图案类似),这种方法可以根据客户要求灵活设计各种图案,且制备出来的图案尺寸标准。我们的图案尺寸精度可以达到0.01mm以上,边缘锐利无毛刺,开孔直线度好,真圆度好。


圆形掩膜板产品特点:
1、低开模费,可以按设计人员的设计要求进行掩膜图形任意更改,成本低
2、能实现金属的半刻,增加公司LOGO,实现品牌化生
3、极高的精密度,最高可达+/-0.0075mm的精度,满足不同产品的组装要求
4、复杂外形产品同样可以蚀刻,无需额外增加成本
5、没有毛刺,压点,产品不变形,不改变材料性质,不影响产品的功能
6、厚薄材料都可以一样加工,满足不同装配组件的要求
7、几乎所有金属都能被蚀刻,对各种图案设计无限制
8、制造各类机械加工所无法完成的金属部件


 如果客户有自己的圆形掩膜版的样品,可以只考虑做一片上面所示的单片掩膜版就行。如果没有较好的固定器件的方案,建议采用我们的叠层设计法。


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